10.3321/j.issn:0253-3219.2001.10.002
CMOS器件X 射线与γ射线辐照效应比较
介绍了低能X射线和γ射线的辐照剂量及器件阈电压漂移的测试方法.讨论了不同偏置条件和辐照方向对器件效应的影响.结果表明,对镀金Kovar合金封装的器件,在背向辐照的最劣辐照偏置下,X射线产生的阈电压漂移是60Co γ射线的13.4倍.
CMOS器件、X射线、γ射线、剂量增强
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O571.33;R144.1(原子核物理学、高能物理学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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