10.3321/j.issn:0253-3219.2000.09.001
碰撞能量对荷能团簇碰撞沉积TiN薄膜的结构、形貌及摩擦学特性的影响
在室温下,以硅(100)为衬底,在不同的衬底偏压(即团簇不同碰撞能量]的条件下,用荷能团簇碰撞沉积方法制备了TiN薄膜.用原子力显微镜和X射线衍射等技术对TiN薄膜的表面形貌和结构进行了研究,并且在维式硬度计和SRV微动摩擦磨损试验机上对其摩擦学性能进行了考察.结果表明,在低的偏压情况下,团簇比较松散地堆积在衬底上;而在高偏压时团簇和衬底碰撞破碎,形成附着力强、致密性好及表面非常光滑的薄膜;在一定的偏压范围内,TiN薄膜是(220)择优取向,TiN薄膜具有较高的硬度、较低的摩擦系数和较好的耐磨损性能.
荷能团簇、结构、形貌、摩擦学性能
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O562.5(分子物理学、原子物理学)
国家自然科学基金19735004;中国科学院科研项目KT952-J1-414
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
593-598