期刊专题

10.3321/j.issn:0253-3219.2000.09.001

碰撞能量对荷能团簇碰撞沉积TiN薄膜的结构、形貌及摩擦学特性的影响

引用
在室温下,以硅(100)为衬底,在不同的衬底偏压(即团簇不同碰撞能量]的条件下,用荷能团簇碰撞沉积方法制备了TiN薄膜.用原子力显微镜和X射线衍射等技术对TiN薄膜的表面形貌和结构进行了研究,并且在维式硬度计和SRV微动摩擦磨损试验机上对其摩擦学性能进行了考察.结果表明,在低的偏压情况下,团簇比较松散地堆积在衬底上;而在高偏压时团簇和衬底碰撞破碎,形成附着力强、致密性好及表面非常光滑的薄膜;在一定的偏压范围内,TiN薄膜是(220)择优取向,TiN薄膜具有较高的硬度、较低的摩擦系数和较好的耐磨损性能.

荷能团簇、结构、形貌、摩擦学性能

23

O562.5(分子物理学、原子物理学)

国家自然科学基金19735004;中国科学院科研项目KT952-J1-414

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

593-598

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

核技术

0253-3219

31-1342/TL

23

2000,23(9)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn