季铵化纳米SiO2-N+@PCMS荷电改性正渗透复合膜及其对四环素的分离性能

摘要：

通过化学法合成叔胺化纳米SiO2(SiO2-N)和聚对氯甲基苯乙烯(PCMS),利用SiO2-N中的叔胺基与PCMS中的氯甲基反应,生成大分子季铵化纳米SiO2(SiO2-N+@PCMS),通过进一步与聚偏氟乙烯(PVDF)共混,以相转化法制备纳米荷电改性的PCMS/PVDF支撑底膜,进而采用界面聚合法制备正渗透(FO)复合膜.采用红外光谱、扫描电镜、zeta电位计和接触角测定仪等对支撑底膜和FO膜表面的化学结构、形貌、荷电性和亲水性等进行了分析,并通过正渗透装置对膜的分离性能进行了测试.结果表明该改性正渗透膜具有较好的荷正电性能,且随着SiO2-N的加入可以有效提高正渗透膜的亲水性和分离性能,添加2％的SiO2-N改性正渗透膜的纯水通量最高可达到22.76 L·m-2·h-1,对四环素的截留率可达到98.5％,经3次水-四环素-水循环过滤后,纯水通量恢复率仍然可达到90.1％.

关键词：纳米二氧化硅、聚偏氟乙烯、正渗透膜、荷电性、分离性能

所属期刊栏目：42

分类号：X703(一般性问题)

资助基金：浙江省基础公益研究计划项目No.LGF21E080008

在线出版日期：2022-08-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：290-298