羟胺对一体式部分亚硝化-厌氧氨氧化工艺的原位恢复及运行稳定性的影响

摘要：

一体式部分亚硝化-厌氧氨氧化(CPNA)工艺的脱氮性能常因亚硝酸盐氧化菌(NOB)大量增殖导致的N03--N积累而恶化.本研究通过连续试验考察长期低剂量投加羟胺(NH2OH)对CPNA工艺原位恢复及其长期运行稳定性的影响.结果表明,低剂量投加NH2OH(1.5 mg?L-1)可快速原位恢复CPNA工艺,TN去除率在45 d内从18.6％恢复至82.2％,ANO-3-N/ANH+4-N比值从0.73±0.05下降至0.13±0.03;以相同方式在100 d内持续投加NH2OH,CPNA工艺的TN去除率长期保持在82.2％±4.9％,ANO3--N/ANH+4-N比值可长期稳定在0.13±0.03.16S rRNA高通量测序结果表明,羟胺投加期间,脱氮功能菌群变化显著,Nitrospira的丰度从28.22％下降到2.74％,厌氧氨氧化菌Candidatus Kuenenia丰度从初始的3.43％明显增长到22.86％.低剂量投加羟胺可有效促进CPNA工艺的快速原位恢复,并保持其长期稳定运行.

关键词：羟胺、总氮去除率、部分亚硝化/厌氧氨氧化、微生物群落结构

所属期刊栏目：41

分类号：X703;X172(一般性问题)

资助基金：国家水体污染控制与治理科技重大专项;国家自然科学基金;国家重点研发计划

在线出版日期：2021-03-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：102-108