微小等离子体反应器的导出机理研究

摘要：

提出了一种通过空心阴极底部的微孔及外加偏置电场的方法实现微小等离子体导出的机制,并采用二维流体模型对其进行了数值仿真研究.当工作气体为SF6、工作气压为 2～9kPa、微孔半径为 0.25μm 时,F 原子最大束流密度在(1.53～5.62)×1014cm-3·s-1之间,SF5最大束流密度在(2.46～7.83)×1016cm-3·s-1之间.工作气压为 5kPa时,样品表面处 F 的平均能量为 3.82eV,散射角在-14°～14°之间;SF5+的平均能量为 25eV,散射角为-13°～14°.当偏置电压在 10～50V 之间变化时,SF5+平均能量在 52～58eV 之间变化.上述 F、SF5+密度满足硅基底材料的有效刻蚀需要,验证了扫描刻蚀加工的可行性.

关键词：扫描等离子体刻蚀加工、微小等离子体反应器、导出机制

所属期刊栏目：31

分类号：O53(等离子体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50605061;江苏省微纳生物医疗器械设计与制造重点实验室资助JSNBI200905

在线出版日期：2011-06-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：91-96