气相法制备异氰酸酯类高分子镀层的实验设计与结果分析

摘要：

异氰酸酯类高分子是阻隔防护薄膜制备的主要材料,应用传统制备方法需使用有机溶剂,不仅容易损伤操作人员健康,还因基底要求较高,出现形成聚合物过程不可控的问题,因此,需对制备方法进行改良.鉴于此,文章提出应用气相法的制备方法,通过设计制备由4-氨基苯乙烯(AS)和甲基丙烯酸异氰基乙酯(IEM)共聚形成镀层(pIEM-AS)的实验,并对共聚物进料成分比例进行调控,最大化促使交联反应发生,达到内应力大幅降低的效果.经表征、柔性折痕、纳米压痕和气体渗透压测试,所制备的镀层表现出良好的柔韧性、氧气阻隔性能、机械强度,证明所制成的pIEM-AS能够应用于阻隔防护领域.

关键词：气相法、异氰酸酯类、高分子、镀层制备

分类号：O631.5(高分子化学（高聚物）)

在线出版日期：2023-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：63-65