10.19817/j.cnki.issn1006-3536.2022.03.025
热处理/水热两步法高效制备超薄六方氮化硼纳米片及性能分析
大规模制备高质量六方氮化硼纳米片一直是亟待解决的难题.结合高温热处理氧化插层和液相剥离离子插层的双重特点,高效制备了片层均匀的超薄六方氮化硼纳米片.热处理/水热两步法绿色无污染,得到的氮化硼纳米片产率高达74.8%,横向尺寸在200nm左右,厚度在1.07nm.采用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)、红外光谱(FT-IR)、拉曼光谱、X射线衍射和X射线光电子能谱(XPS)等方法对氮化硼纳米片进行表征分析,进而揭示反应过程中氮化硼纳米片的剥离机制,证明热处理/水热两步法的高效性和规模化生产的可行性.
六方氮化硼纳米片、热处理、水热反应、高产率、超薄
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TB383(工程材料学)
中国纺织工业联合会科技指导性计划项目;中原工学院青年人才创新能力基金项目
2022-04-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
123-126,132