Ti靶及TiO2靶溅射TiO2薄膜微观形貌、结构及光学性质研究

摘要：

利用射凝磁控溅射技术通过Ti靶及TiO2靶在氩氧气氛中同时溅射制备TiO2薄膜,并对所得的样品进行不同温度的退火处理.采用X射线衍射、扫描电子显微镜、拉曼光谱和吸收谱研究了不同的靶材及退火温度对TiO2薄膜晶体结构、微观形貌及光学性质的影响.结果表明:由于靶材的不同,Ti靶溅射时氧分压较低,造成薄膜中存在大量的氧缺陷,晶相发育不完善,颗粒相比TiO2靶溅射时较小,从XRD和拉曼光谱来看,Ti靶溅射得到的TiO2薄膜更有利于金红石相的形成.薄膜的透过率随退火温度的升高而降低,TiO2靶材溅射的薄膜的光学带隙随温度升高而明显降低,而Ti靶得到的薄膜的光学带隙对退火温度的依赖关系不明显.

关键词：TiO2薄膜、退火、锐钛矿、金红石

所属期刊栏目：40

分类号：TB3;U45

资助基金：中国地质大学北京矿物岩石材料开发应用国家专业实验室开放课题09A004;中央高校基本科研业务费专项基金资助2010ZY50和2011YYL006

在线出版日期：2012-07-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：100-102,120