10.3969/j.issn.1006-3536.2008.09.007
层状结构(RCOOH2O)n Si(OH)4-n胶束聚集体-插层客体分子自组装与合成技术
以类纳米结构有机硅/无机硅纳米复合物为前驱物,自组装成(RCOOH2O).Si(OH)4-n缔合分子,进而自组装成层状结构(RCOOH2O).Si(oH)4-n胶束聚集体,以此为主体与插层客体合成.开发出一种新型酰基正硅酸化合物、聚合物制造途径,介绍了该技术的要点:层状结构(RCOOH2o)n Si(OH)4-n 胶束聚集体的制备;插层客体预处理;分子自组装与合成,并介绍了其特点.
类纳米结构有机硅/无机硅纳米复合物、(RCOOH2O)nSi(OH)4-n缔合分子、层状结构(RCOOHzO)nSi(OH)4-n胶束聚集体、主体、插层客体、胶束"生长"、合成
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O64;TP2
2008-11-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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