PVDF-HFP基复合微孔聚合物电解质膜的制备与改性

摘要：

为了提高聚偏氟乙烯-六氟丙烯(PVDF-HFP)基电解质的离子电导率和机械强度,采用倒相法,制备出复合聚偏氟乙烯-六氟丙烯基电解质PVDF-HFP-SiO2.复合电解质的形貌、结构和电化学性能分别用SEM、XRD和交流阻抗法进行了表征.结果表明:纳米SiO2的加入增强了聚合物的拉伸强度,同时有效降低了聚合物的结晶度.PVDF-HFP-SiO2分解电压为5.1V,离子迁移数为0.81,聚合物电解质的电导率(25℃)为4.84×10-3S·cm-1.

关键词：聚合物电解质膜、倒相法、纳米SiO2、聚偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物、改性

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分类号：TM912

资助基金：黑龙江工程学院大学生创新创业训练计划项目201311802138;国家自然科学基金81373083

在线出版日期：2014-12-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：14-17