激光辅助纳米压印填充过程有限元分析

摘要：

随着光刻技术的发展,电子器件的尺寸越来越小,已经进入纳米量级.几十年来,光学光刻技术在半导体加工图形转移的过程中一直扮演着重要角色,纳米压印技术以产量高、成本低、工艺流程简单的优点逐渐在图形转移技术中崭露头角.介绍了一种新型的激光辅助纳米压印技术,基于有限元方法并借助ANSYS软件对压印过程中二维的熔融层填充过程进行模拟.Si基板在激光作用下形成熔融层时,采用Mooney-Rivlin模型表示熔融层的机械性能.通过试验分析了深宽比、转移图形宽度和占空比对聚合物变形的影响,总结了技术的可行性与优越性,为以后纳米压印过程的优化提供了参数支持.

关键词：纳米压印、激光辅助压印、ANSYS、有限元分析

所属期刊栏目：34

分类号：TN47(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2013-11-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：98-101