极紫外光刻快速掩模优化方法

张子南李思坤王向朝成维

中国科学院上海光学精密机械研究所;

摘要：

提出了一种快速的极紫外光刻像素化掩模优化方法.优化过程中采用改进的像素化快速厚掩模模型,根据掩模像素尺寸设置边界像素上点脉冲的大小.以双重边界演化方法为基础,在每轮优化时,根据当前光刻胶轮廓与目标图形轮廓的差异自适应地对优化变量进行初始化,利用先验信息生成初始个体和种群,从而提高优化效率.以一维线空图形和二维复杂图形为例进行了仿真验证,结果表明该方法有效提高了掩模成像仿真精度,两种二维掩模图形的优化效率得到明显提高.

关键词：衍射、极紫外光刻、厚掩模模型、掩模优化

所属期刊栏目：42

分类号：O436.1(光学)

资助基金：国家科技重大专项2017ZX02101004-002

在线出版日期：2022-08-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：25-34