电子束光刻研制高分辨X射线波带片透镜最新进展

摘要：

首先综述了当前X射线透镜的分辨率和效率的水平,预测并讨论了发展我国波带片透镜、赶超国际先进水平的技术路径图.在原有100 nm分辨率波带片和会聚透镜工艺基础上,综述了电子束光刻结合金电镀进一步发展30～70 nm分辨率的X射线波带片的最新进展.在研发30 nm分辨率的波带片中.电子束光刻中的邻近效应严重限制了波带高宽比,而现有商业软件(基于蒙特卡罗模型和显影动力学)的邻近效应修正在同时处理从微米到30 nm的各种图形时效果甚微.为此,本团队针对70 nm分辨率的硬X射线波带片采用了图形修正法,实现了20:1的波带高宽比,针对50 nm分辨率的硬X射线波带片采用了分区域修正法,获得了 15:1的波带高宽比;30 nm波带片透镜的金属化摒弃了传统的直流电镀工艺,采用脉冲金电镀,实现了金环均匀电沉积,成功研制了 30 nm分辨率的软X射线波带片透镜和30～100 nm的大高宽比分辨率测试卡.所有研制的波带片透镜在上海同步辐射装置得到了 X射线光学成像验证.

关键词：X射线光学、X射线波带片透镜、X射线显微成像系统、电子束光刻纳米加工、30 nm分辨率、分区域/图形法邻近效应修正、脉冲金电镀工艺

所属期刊栏目：42

分类号：O436(光学)

资助基金：上海市科创仪器项目;上海市科创仪器项目;自然科学基金;国家重大科研仪器研制项目

在线出版日期：2022-07-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共15页

页码：74-88