用于光刻调焦调平的反射式投影光学系统设计

摘要：

调焦调平传感器是光刻机关键分系统之一,用于曝光前对硅片高度形貌进行测量.投影光学系统是调焦调平传感器的核心,其成像质量直接影响传感器测量精度.根据调焦调平传感器的测量原理与像差理论,分析得到投影光学系统放大倍率、畸变、远心度和分辨率对调焦调平系统测量精度的影响规律.为此,优选反射式投影光学系统设计方案,该方案具有结构简单、无色差,畸变小等特点,并利用ZEMAX软件进行设计优化和公差分析,所设计系统工作波长为600～1000 nm,放大率为1.000,视场3 mm×26 mm范围内弥散斑均方根半径小于0.189 μm,调制传递函数为0.74@33 lp/mm,最大畸变为0.0008％,远心度为0.04 mrad.结合目前光机制造和装配能力可知,用于光刻调焦调平的反射式光学投影系统设计可工程实现.

关键词：光学设计、调焦调平、反射式、投影光学

所属期刊栏目：40

分类号：O436(光学)

资助基金：国家科技重大专项2017ZX02101006

在线出版日期：2020-09-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：135-141