微纳金属光学结构制备技术及应用
微纳光学结构制备技术一直是微纳光子学器件发展的技术瓶颈.针对微纳光学结构制备技术向小尺寸、高精度和广泛应用发展的趋势,报道了基于电子束、X射线和接近式光学的混合光刻制作微纳金属光学结构技术.针对微纳光子学器件复杂图形开发了微光刻数据处理体系,基于矢量扫描电子束光刻设备在自支撑薄膜上进行1×高分辨率图形形成,利用X射线光刻进行高高宽比微纳图形复制,再利用低成本接近式光学光刻技术进行金属加强筋制作.还报道了自支撑X射线金光栅衍射效率和抗振测试结果.
光学制造、微纳光学结构、电子束光刻、X射线光刻、自支撑薄膜
31
O436.1;TN305.7(光学)
2012-02-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
243-250