厚二氧化硅光波导薄膜制备及其特性分析

摘要：

以硅烷和氧化二氮作为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,不使用掺杂,在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的二氧化硅薄膜.研究了薄膜折射率和淀积速率与工艺参量之间的关系,通过棱镜耦合仪、傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜等测试手段,分析了薄膜的结构和光学特性.结果表明,实验能快速生长厚二氧化硅薄膜,薄膜表面平整,颗粒度均匀,同时薄膜具有折射率精确可控和红外透射性能好的特点,非常适合制作光波导器件.

关键词：导波与光纤光学、平面光波导、等离子体增强化学气相沉积、二氧化硅薄膜

所属期刊栏目：24

分类号：O484.5(固体物理学)

资助基金：浙江省科技计划001101027;国家重点实验室基金

在线出版日期：2004-03-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：24-28