X射线荧光层析成像中消除散射光的方法

摘要：

介绍了X射线荧光层析成像技术的成像原理及其在微量分析领域中的应用.针对X射线与物质相互作用时,不仅产生荧光,而且会产生各种散射光,为消除这些散射光对成像结果的影响,提出采用在与入射X射线垂直方向放置一个圆环状的晶体单色器,即双聚焦模式晶体单色器,使荧光与各种散射光分离,并聚焦在探测器上.这样不仅大大增强了荧光信号的强度,而且可使荧光探测器小型化.

关键词：X射线光学、X射线荧光层析、晶体单色器、同步辐射

所属期刊栏目：23

分类号：O434.14;TH742.63(光学)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划60278030

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：385-389