偶氮染料掺杂高分子薄膜的光谱和光存储性质研究

摘要：

利用旋涂法, 制备了以二乙基胺基[N(CH2CH3)2]作为推电子基团、以具有强电负性的羧基(COOH)作为拉电子基团的推-拉型偶氮染料掺杂的高分子(PMMA)薄膜.在室温下测试了该偶氮染料在溶液和薄膜态的吸收光谱、薄膜态的反射光谱和透过光谱, 发现该薄膜在400～550 nm波长范围内具有强的吸收.在514.5 nm光盘静态测试仪上测试了膜片的静态光存储性能, 结果表明, 用低功率Ar+激光(514.5 nm)辐照膜片时, 薄膜在写入前后的反射率变化大于25%.

关键词：光记录材料、偶氮染料薄膜、高分子

所属期刊栏目：19

分类号：TB3(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金59832060;中国博士后科学基金

在线出版日期：2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1411-1414