负偏压对含氢类金刚石薄膜性能的影响

摘要：

为了解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度问题,本研究采用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术,以等时长、不同偏压条件在45钢基材上沉积复合DLC薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜观察薄膜形貌;采用拉曼光谱仪分析薄膜成分;采用涂层附着力自动划痕仪测定膜基结合强度.结果表明:制备偏压从-600 V～-1200 V变化时,复合DLC薄膜表面粗糙度增大,薄膜总厚度增加,总膜厚最大为16.3μm;氢含量降低,石墨相对含量增加,过渡层DLC与顶层DLC膜间的结构成分差异减小.在等时长沉积条件下,随着制备负偏压的增加,复合DLC薄膜残余应力增大,结合力减小,结合力最大为54.5 N左右.顶层DLC膜制备偏压为-600 V～-800 V时综合性能较优.

关键词：DC-PECVD;负偏压;H-DLC;多峰拟合;结合力

所属期刊栏目：30

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：焦作市创新创业领军团队资助项目;河南省百人计划资助项目

在线出版日期：2022-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：411-420