用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制

摘要：

利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32～0.43之间,槽形深度在0.57～0.67 μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2％以内,同时±1级的衍射效率大于35％.在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1 067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模.实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665 μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响.实验测量表明,该相位掩模的零级衍射效率小于2％,±1级衍射效率大于40％,满足飞秒激光制作光纤光栅的需要.

关键词：全息光刻、相位掩模、严格耦合波理论、离子束刻蚀、衍射效率

所属期刊栏目：28

分类号：TN253;TN305.7(光电子技术、激光技术)

资助基金：装备预研项目;国家自然科学基金资助项目;上海市全固态激光器与应用技术重点实验室开放课题;江苏高校优势学科建设工程PAPD资助项目

在线出版日期：2020-06-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：844-850