大口径平面光学元件波前梯度数控抛光

摘要：

针对改善光学元件的波前梯度均方根指标,在总结面形精度及面形分布对波前梯度指标影响规律的基础上,提出了基于匀滑面形拟合加工的方法,给出了该方法的基本思想和工作流程.首先,对原始面形数据进行扫描计算,标记波前突变数据.然后,采用NURBS拟合算法重构相邻面形突变点之间的数据,生成用于指导加工的面形数据.最后,根据待加工面形数据选择相应参数进行面形加工.采用多件610 mm×440 mm口径K9材料平面反射镜进行实验验证.实验结果表明,使用该方法进行数控加工,在2～3个加工周期内可使波前梯度均方根指标从11 nm/cm收敛至7.7 nm/cm以内,且面形几乎保持不变.

关键词：光学加工、光学元件、数控抛光、波前梯度均方根、匀滑面形拟合

所属期刊栏目：27

分类号：TG74(刀具、磨料、磨具、夹具、模具和手工具)

资助基金：国家863高技术研究发展计划资助项目

在线出版日期：2019-08-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：1473-1480