米级弯月面化学薄膜涂覆装备的研制
弯月面化学涂膜技术因其具有大面积、低成本以及高效率等优势成为继旋涂、喷涂等传统涂膜工艺后极具发展潜力的新型化学薄膜涂覆技术.本文针对国家某重大项目对米级光学元件表面的化学薄膜涂覆需求,对基于弯月面涂胶的技术原理进行了系统研究,分析了涂胶压强、基片和狭缝间距以及材料亲疏水性与涂胶面形态的关系,实现了对弯月液面的精密调控并研制出基于弯月面化学薄膜涂覆技术的装备,在1 400 mm×420mm尺寸玻璃基片上实现了光刻胶的均匀涂覆,使整体胶膜厚度误差<4%,满足了米级元件表面精密化学薄膜的涂覆需求.
弯月面、大面积、涂胶、液面调控、光学元件
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TB853.29(摄影技术)
国际科技重大专项资助项目2013ZX04001000-214;国家自然科学基金资助项目11504369;2014年吉林省博士后科研项目
2017-03-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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