溅射法制备多层膜沉积速率的标定

摘要：

为消除溅射沉积多层膜过程中产生的膜厚随机误差,实现多层膜膜厚的精确控制,提出了一种精确标定薄膜沉积速率的方法.该方法通过对多次实验结果进行最小二乘拟合得到薄膜沉积速率.对随机误差基本特性的分析表明,随着实验次数的增加,沉积速率将逐渐逼近真值.基于这一原理,可以对薄膜的沉积速率进行精确标定,同时提取出膜厚随机误差,进而确定镀膜机的膜厚控制精度,获得精确控制多层膜膜厚所需要的完整信息.选用两种精度不同的沉积设备,采用提出的方法对所制备的多层膜进行了测试.结果表明,多层膜的膜厚控制精度随沉积设备而异:其中低成本的普通镀膜机只能实现0.1 nm的膜厚控制精度;而另一台性能较高的镀膜机的膜厚控制精度优于0.01 nm.

关键词：多层膜、溅射法、沉积速率、随机误差、控制精度

所属期刊栏目：18

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目60678034;国家科技重大专项资助项目

在线出版日期：2011-04-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：2530-2536