激光清洗硅片表面Al2O3颗粒的试验和理论分析

摘要：

以KrF准分子激光器为激光源,对目前工业上常用的硅片研磨抛光液的主要成分Al2O3颗粒进行激光清洗的试验和理论分析.建立一维热传导模型,利用有限元分析软件MSC.MarC模拟硅片表面的温度随激光作用时间和能量密度的分布.通过理论计算,量化了颗粒所受到的清洗力以及其与硅片表面之间的粘附力,理论预测出1 μm Al2O3颗粒的激光清洗阈值为60 mJ/cm2.在理论分析的指导下,利用248 nm、30 ns的KrF准分子激光进行单因素试验,研究激光能量密度、脉冲个数、激光束入射角度对激光干法清洗效率的影响,并且实验验证了清洗模型以及场增强效应对激光清洗结果的影响.

关键词：激光清洗、硅片、清洗效率、Al2O3颗粒

所属期刊栏目：14

分类号：TN249(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金52090101;国家高技术研究发展计划863计划2002AA421230

在线出版日期：2006-11-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：764-770