倾斜入射条件下衬底对金属网栅屏蔽特性的影响

摘要：

提出了双层膜系分析方法,该方法采用独立网栅等效薄膜模型,将网栅对衬底干涉的影响引入分析,克服了Kohin方法仅考虑衬底干涉的不精确性,并避免了其分析独立网栅的透波率公式在高频和大入射角时存在的不准确性.用紫外光刻在石英衬底上制备了周期为320 μm,线宽为4.5 μm的网栅,测得S波30°入射时12～18 GHz的屏蔽效率大于16dB,略低于理论值但变化趋势一致,证实了双层膜法的有效性.进而分析衬底影响表明:入射为S波及小于衬底布儒斯特角θB的P波时屏蔽效率降低,而入射为大于θB的P波时屏蔽效率反常增加;屏蔽效率变化最大值随入射角变化;优化衬底厚度可在不影响网栅透光能力的同时获得最佳屏蔽效果.

关键词：电磁屏蔽、透明导电膜、衬底、倾斜入射、金属网栅

所属期刊栏目：14

分类号：TN713;O484.1(基本电子电路)

资助基金：国家"211"工程建设项目

在线出版日期：2006-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：360-367