磁流体辅助抛光工件表面粗糙度研究

摘要：

给出了磁流体辅助抛光的机理,以及依据Preston方程建立的磁流体辅助抛光的数学模型.并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状,以及抛光区内表面粗糙度情况.最终加工出了表面粗糙度为0.76 nm(rms值)的光学元件,其高频表面粗糙度达到0.471 nm(rms值),满足了对一定短波段光学研究的要求.结果表明:磁流体辅助抛光可以用于对光学元件进行超光滑加工;在磁流体辅助抛光过程中,较大粒度的磁流体抛光液有利于工件表面粗糙度快速降低,较小粒度的磁流体抛光液可以获得更加光滑的光学表面.

关键词：磁流体辅助抛光、磁流变抛光、抛光区、超光滑表面

所属期刊栏目：13

分类号：TH161

资助基金：国家自然科学基金60108003

在线出版日期：2005-03-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：34-39