介质多层膜热处理分析

摘要：

由薄膜压缩应力产生模型和薄膜总应力的组成出发,分析了要改变薄膜的本征应力热处理必须有足够的能量即激活能.当热处理能量低于激活能时,只能改变薄膜热应力,与处理时间无关.热应力与处理温度有线性关系,建立了波长变化量与温度变化量间的关系模型.当热处理能量高于激活能时,本征应力改变,进而波长的改变与时间有关.实验结果表明,从200～300℃的各1,2,5 h保温处理下,波长从1.4 nm线性地增大到4.15 nm,波长变化与处理时间无关.在350℃分别进行1,2,5 h的处理情况下,波长的改变量分别为4.75 nm,5.07 nm,5.7 nm.保温时间短的,波长增量也小.400℃各种处理时,波长的改变基本上与350℃的处理结果类似.充分说明了在较低温度处理时,薄膜应力只有热应力的改变;较高温度处理时,本征应力才会改变.

关键词：光学薄膜、热处理、热应力

所属期刊栏目：13

分类号：O436(光学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2001AA312100

在线出版日期：2005-03-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：22-27