偏最小二乘一分光光度法同时测定染液中直接染料组分的浓度

摘要：

为建立直接染料混合体系中三组分浓度同时测定的方法，通过均匀设计得到校正集和检验集样本，采用改进的最小偏二乘法法（PLS）对体系的400nm-700nm波段可见吸收光谱进行回归分析，得出同时测定该体系多组分含量的数学模型，并将该模型用于直接染料染色过程中染料浓度的检测，结果表明模型有较好的预测能力．

关键词：染色过程、偏最小二乘法(PLS)、染料浓度

所属期刊栏目：23

分类号：TS193.1(纺织工业、染整工业)

资助基金：广西教育厅桂教科研资助项目200708MS067

在线出版日期：2012-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：85-87,91