光刻和蚀刻基本工艺过程及缺陷来源分析

摘要：

介绍玻璃多刻线样板制作过程中光刻和蚀刻工艺过程,并针对制作过程中光刻和蚀刻工艺过程中各种缺陷产生的种类及来源进行基本的分析,提出一些减少这些缺陷的措施.

关键词：光刻、蚀刻、缺陷、措施

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2010-09-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

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