表面缺陷对取向硅钢磁畴形态的影响

摘要：

取向硅钢的磁畴形态与其损耗密切相关,研究其内部的磁畴结构对于理解铁损的产生具有重要意义.利用粉纹法观察了带有涂层、激光刻痕处理以及存在表面缺陷的硅钢片磁畴.结果表明,施加较小的垂直磁场更容易观察硅钢的原始磁畴形态,有利于显示清晰的磁畴图像和晶界;如果硅钢片表面存在冲裁小孔,原有的180.畴在小孔附近会变为迷宫畴,且附加应力和退磁场作用会使小孔周围磁畴细化,使用微磁学模拟的方法定性验证了这一变化;如果硅钢表面存在划痕,划痕两端的180.畴会变为迷宫畴,随着划痕方向的不同,磁畴形态也不同.最后,比较了圆盘剪裁切与线切割后硅钢片边缘的磁畴形态,讨论了其磁畴形态不同的原因.

关键词：取向硅钢、Bitter粉纹法、磁畴变化、表面缺陷、微磁学模拟

所属期刊栏目：35

分类号：TG113.22;TG142.77(金属学与热处理)

在线出版日期：2023-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：462-470