A/B位离子掺杂BiFeO3纳米薄膜的微结构与铁电性能

摘要：

采用化学溶液法结合层层旋涂退火工艺,在掺氟氧化锡导电玻璃基片上制备了BiFe0.95Mn0.05O3和Bi0.9Nd0.1FeO3纳米晶铁电薄膜,并分析比较了其微结构和铁电性能.结果表明:2组分样品均为单相多晶钙钛矿结构,晶粒细小均匀,表面平整,结构致密.两薄膜均获得了饱和电滞回线,且BiFe0.95Mn0.05O3薄膜具有向上的择优取向极化和更优异的铁电性能,其剩余极化强度(Pr)达60 μC·cm-2,在1～50kHz频率范围与25～200℃温度区间内铁电极化响应稳定,保持时间长达1×103s工作与反复极化翻转高达1×109次表现出优异的电荷保持力和抗疲劳稳定性.

关键词：薄膜、铁酸铋、离子掺杂、微结构、铁电性

所属期刊栏目：49

分类号：TB34(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;国家自然科学基金;山东省重点研发计划;泰山学者攀登计划;济南市顶尖人才一事一议项目

在线出版日期：2021-05-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：511-518