HVO2薄膜相变的特性及热稳定性

摘要：

采用射频溅射磁控溅射技术在Ar+H2气氛下,以V2O5为溅射靶材在玻璃基片上制备了H掺杂VO2(HVO2)薄膜,研究了H2流量和退火处理对HVO2薄膜的结构、光电性能和热稳定性的影响.结果 表明:H2流量可以控制薄膜中H的含量,微量H的掺杂使HVO2薄膜相变温度降低到室温附近,过量的H掺杂会使薄膜处于金属态.当500℃下退火3h后,薄膜物相、相变等特征明显变化,此时薄膜中的H不能稳定存在于VO2晶格而溢出薄膜.当退火温度≤450℃、退火时间≤6h时,薄膜保持较高的稳定性,这为室温附近使用HVO2薄膜提供了基础.另外,随H2流量增加,薄膜的平均透射率小幅度增加,最终稳定在37％左右.随着退火温度的增加,未引入H2制备的VO2薄膜的平均透射率在400℃退火后为30.9％,在450和500℃退火后为35.8％左右.H2流量为0.1～0.5 mL/min时制备的样品在3种退火温度下的透射率均保持在38％左右.

关键词：氢掺杂二氧化钒、薄膜、相变温度、退火处理、溅射法、热稳定性

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分类号：TN304(半导体技术)

资助基金：高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室开放课题基金SKL201110SIC

在线出版日期：2019-09-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：1167-1174