W掺杂VO2薄膜的椭圆偏振光谱表征

摘要：

利用MSP-3200三靶共溅射镀膜机,射频磁控溅射在石英基底上反应溅射制备单斜相(M相)VO2薄膜及W掺杂单斜相(M相)VO2薄膜.利用WVASE32椭圆偏振仪及变温附件在350～2 500 nm波长范围内对相变前后的VO2薄膜及W掺杂VO2薄膜进行光谱测试,运用Lorentz谐振子色散模型结合有效介质近似模型对椭偏参数进行拟合.结果表明:W掺杂的VO2薄膜与纯相的VO2薄膜相比,光学常数n、k随波长的变化趋势相同,但W掺杂后的VO2薄膜的折射率n小于纯相VO2薄膜的折射率,而消光系数k值大于纯相VO2薄膜的k值.W的掺入增加了薄膜的致密度,同时增加了薄膜内部自由载流子的浓度.

关键词：氧化钒薄膜、相变、椭圆偏振光谱、光学常数

所属期刊栏目：44

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家重大科学研究项目2009CB939904

在线出版日期：2016-04-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：464-468