期刊专题

10.14062/j.issn.0454-5648.2016.03.09

烧结温度对放电等离子烧结氮化硅陶瓷显微结构和力学性能的影响

引用
以亚微米级氮化硅为原料、Al2O3-Y2O3为烧结助剂,利用放电等离子烧结(spark plasma sintering,SPS)烧结技术制备氮化硅陶瓷.用X射线衍射和扫描电子显微镜对试样的物相组成和显微结构进行分析,研究了烧结温度对氮化硅陶瓷力学性能和显微结构的影响.结果表明,采用SPS烧结技术可在较低温度下获得致密度较高、综合力学性能较好的β相氮化硅陶瓷.随着烧结温度的提高,样品致密度、抗弯强度、断裂韧性均不断增大,在1 550℃时,其抗弯强度和断裂韧性分别达到973.74MPa和8.23 MPa·m1/2.在1 550℃以下,陶瓷样品中β相氮化硅含量可达到98%,显微结构均匀,晶粒发育良好、呈长柱状,晶间紧密连接,晶间气孔较少.继续升高温度,部分晶粒发生异常长大,产生了更多的显微孔洞,抗弯强度急剧下降.

氮化硅、放电等离子烧结、烧结温度、力学性能、显微结构

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TQ174.75

国家自然科学基金重点项目51232004

2016-04-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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硅酸盐学报

0454-5648

11-2310/TQ

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2016,44(3)

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