退火时间对Bi/Te多层薄膜结构和热电性能的影响

摘要：

采用磁控溅射法在玻璃衬底上室温沉积厚度不同的Bi/Te多层薄膜,在氩气保护下对薄膜在150℃进行不同时间退火处理,研究了退火时间对Bi/Te多层薄膜物相组成、微观形貌、表面粗糙度和热电性能的影响.结果表明:退火过程使Bi、Te原子在相邻单质层界面上产生了强烈的扩散反应,生成以Bi2Te3为主相的Bi-Te化合物;随退火时间的延长,薄膜的界面空洞增多,表面粗糙度变大.短时间退火可提高薄膜的热电性能;而随退火时间的延长,量子尺寸效应逐渐显现,薄膜的载流子浓度、迁移率、电导率和Seebeck系数均出现明显的振荡现象,沉积的单质层越厚,振荡周期越大.

关键词：铋/碲多层薄膜、退火时间、微观结构、热电性能、磁控溅射

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分类号：TN304(半导体技术)

资助基金：中国电子科技集团公司第四十六研究所创新基金资助项目CJ20130307;天津市科技特派员项目14JCTPJC00542;火炬计划项目2013GH580096

在线出版日期：2016-03-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：95-103