期刊专题

10.7521/j.issn.0454-5648.2013.09.14

氧分压对室温制备掺铝氧化锌薄膜性能的影响

引用
室温下,采用脉冲直流反应磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了掺铝的氧化锌(ZnO:Al, AZO)透明导电薄膜。采用配有λ-sensor氧分压传感器的控制器闭环控制氧分压,研究了氧分压对薄膜结构、表面形貌和光电性能的影响。结果表明:在不同的氧分压下制备的AZO薄膜均为多晶纤锌矿结构,具有[002]择优取向,其晶体呈柱状生长,晶粒之间结合紧密。氧分压为3.36×10-2 Pa时,AZO薄膜的性能指数最高,其电阻率为1.15×10-3?·cm,相应的载流子浓度为2.1×1020/cm3,载流子迁移率为25.8 cm2/(V?s),可见光透射率为79.1%。随着AZO薄膜的载流子浓度由1.03×1020 cm-3增加到3.64×1020 cm-3,薄膜禁带宽度由3.49 eV增大到3.72 eV。

掺铝的氧化锌、反应磁控溅射、氧分压、透明导电薄膜

TB383(工程材料学)

十二五国家科技支撑计划2011BAE14B01资助项目。

2013-09-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

1251-1257

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硅酸盐学报

0454-5648

11-2310/TQ

2013,(9)

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