原位形成氧氮玻璃中间层连接Si3N4陶瓷

摘要：

用Si3N4-Al2O3-Y2O3-SiO2混合粉制备用于连接氮化硅陶瓷的焊料,原位形成以氧氮玻璃为中间层的氮化硅陶瓷接头.研究了连接过程中温度、压力及气氛对陶瓷接头微观组织及性能的影响.结果表明:在0.1 MPa氩气条件下,接头内含有一定量气孔,氮化硅母材有少量分解；氮气气氛、0.1 MPa条件下可保证陶瓷母材稳定、接头致密,在氧氮玻璃中间层均匀分布有β-SiAlON陶瓷相;当氮气气压增大到0.5 MPa时,陶瓷接头无法实现有效连接.在较低温度下,当连接压力由0.6 MPa增大到1.5 MPa时,接头弯曲强度提高；升高温度,接头强度出现峰值,在1550℃时达到最高,连接压力对接头的影响减小；继续增大压力将使液相焊料流出,甚至母材自身发生变形.

关键词：氮化硅陶瓷、氧氮玻璃、连接

所属期刊栏目：41

分类号：TQ174

资助基金：国家自然科学基金50902029,51021002;哈尔滨市青年科技创新人才基金2010RFQXG022;哈尔滨工业大学优秀青年教师培养计划HITQNJS.2009.024;国家博士后基金20090450956

在线出版日期：2013-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：275-280