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温度对原位反应制备的 Si–B–O–N 陶瓷微观结构及力学性能的影响

引用
为满足新型透波陶瓷工程应用需要,利用硼酸脱水得到的氧化硼与氮化硅在 1400~1800 ℃原位反应制备 Si–B–O–N 陶瓷。借助 X 射线衍射仪、X 射线光电子能谱仪、Fourier 变换红外光谱分析仪和扫描电子显微镜研究了热处理温度对 Si–B–O–N 陶瓷物相组成、结构及力学性能的影响。结果表明:氧化硼和氮化硅的原位反应在 1600 ℃以上完成,所得产物为氮化硼和掺杂硼、氮元素的石英玻璃,其体积分数分别为 30%和 70%;原位反应结束后,随温度提高,氮化硼生长速率逐渐加快,晶粒尺寸由纳米级逐渐长大为亚微米级,非晶相中硼、氮元素含量逐渐降低;受氮化硼纳米晶强化作用以及非晶相结构影响,在 1700 ℃获得的 Si–B–O–N 陶瓷力学性能较好。

硅—硼—氧—氮陶瓷、氮化硅、氧化硼、氮化硼、透波陶瓷、原位反应

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TB332(工程材料学)

2012-10-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

1265-1270

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硅酸盐学报

0454-5648

11-2310/TQ

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2012,40(9)

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