氮分压对Ta-N薄膜摩擦性能的影响

摘要：

在氮气和氧气的混合气氛中,在不同N2分压下,用直流磁控溅射法在Si基片上沉积非晶态Ta-N薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜、台阶仪和纳米压痕仪、光学轮廓仪和扫描电子显微镜对沉积的薄膜进行表征.结果表明:不同N2分压下沉积的薄膜都有平整且致密的表面,表面均方根粗糙度都较小;随着N2分压的上升,薄膜沉积速率、纳米硬度和弹性模量都随之下降.所制备薄膜在室温、空气环境中具有稳定的滑动摩擦因数;当N2分压为混合气体的10%(体积分数)时,薄膜的摩擦因数最低,仅为0.27,但由于硬度较低,其磨损也相对较为严重.

关键词：氮化钽薄膜、纳米硬度、弹性模量、表面形貌、摩擦性能

所属期刊栏目：39

分类号：TB333(工程材料学)

资助基金：江苏省自然基金BK2008224;江苏省高校自然科学重大基础研究09KJA430001;江苏省青蓝工程资助项目

在线出版日期：2011-07-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：843-848