籽晶处理工艺对物理气相传输法生长SiC单晶的影响

摘要：

将块体SiC单晶中切割下的晶片经研磨、抛光和腐蚀不同工艺处理后作为籽晶,用物理气相传输法生长SiC晶体,生长时间为10min。用光学显微镜观察晶片生长前后的形貌,讨论了不同处理工艺籽晶对晶体生长的影响。结果表明,研磨和抛光可以去除晶体切割时产生的凹坑和划痕,但残留的研磨变质层和抛光导致的机械损伤层可诱导晶片在高温晶体生长时产生多晶成核,腐蚀可以去除研磨和抛光时产生的机械损伤层,用腐蚀后的晶片作为籽晶,生长的晶体表面光滑,并且能够很好地复制籽晶的结构。

关键词：碳化硅单晶、晶体生长、物理气相传输法、籽晶

分类号：O771;O782(晶体缺陷)

在线出版日期：2011-09-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1426-1429