常压化学气相沉积法制备Ti5Si3薄膜及其镀膜玻璃

摘要：

以制各兼具阳光控制和低辐射功能的镀膜玻璃为目的,以硅烷与四氯化钛为反应前驱体,氮气为保护气体和稀释气体,通过常压化学气相沉积法模拟玻璃浮法在线镀膜工艺,在玻璃基板上成功制备了Ti5Si3薄膜,用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、四探针测阻仪和分光光度计对薄膜的相结构、形貌、电学、光学性能进行了表征.结果表明:薄膜为六方结构的Ti5Si3晶相,晶相含量较高,晶粒尺寸为23nm,薄膜中的晶粒以200nm左右的多晶颗粒团聚体形式存在.薄膜电阻率为122μΩ·cm,与Ti5Si3晶体的本征电阻率相当.这种单层镀膜玻璃的红外反射率可高达92.1%,可见光区的透过率为25%,兼具阳光控制和低辐射功能.

关键词：常压化学气相沉积法、硅化钛、红外反射、透射率、电阻率

所属期刊栏目：37

分类号：TQ171;TQ134

资助基金：国家自然科学基金50672084

在线出版日期：2009-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1694-1699