10.3321/j.issn:0454-5648.2009.08.032
制备工艺对多孔Si3N4陶瓷介电性能的影响
采用添加成孔剂和冰冻-干燥法制备具有不同气孔率(30%~60%)的多孔Si3N4陶瓷,研究了不同制备工艺对多孔Si3N4陶瓷介电性能的影响.结果表明:不同的成型工艺制备出具有不同孔分布的氮化硅多孔陶瓷,添加成孔剂制备的多孔陶瓷具有较大的孔,洞分布在致密的基体上:冰冻-干燥法制备的多孔陶瓷具有复合孔分布.对样品的介电特性的研究表明,随着样品的气孔率增加,其介电常数和介电损耗减小;添加成孔剂制各样品的介电常数小于冰冻-干燥法制备样品,而其介电损耗较大,多孔Si3N4陶瓷的介电常数和介电损耗分别在5.21~2.91和9.6×10-3~2.92×10-3范围内变化.
多孔氮化硅陶瓷、成孔剂、冰冻-干燥、介电性能
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TQ174
陕西科技大学科研启动基金BJ08-02
2009-09-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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