10.3321/j.issn:0454-5648.2008.02.014
TiO2薄膜的相变与光学性能
采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上沉积TiO2薄膜.通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱、紫外可见光谱和荧光发射光谱对薄膜的结构、相组成和表面形貌进行了表征.研究了退火温度对薄膜相结构、表面化学组成、形貌及光学性能的影响.结果表明:沉积的TiO2薄膜为无定形结构,经400℃以上退火后的薄膜出现锐钛矿相,600℃以上退火后的薄膜开始出现金红石相,1000℃以上退火的薄膜完全转变为金红石相.随着退火温度的升高,晶粒尺寸逐渐增大,仅在950~l000℃时出现减小,1 000℃退火的薄膜组成为TiOx.随着退火温度的升高,薄膜的透射率下降,折射率和消光系数有所增加.
二氧化钛薄膜、射频磁控溅射、退火、锐钛矿、金红石
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O484.1(固体物理学)
国家自然科学基金50642038;高等学校博士学科点专项科研项目20060357003;安徽省高等学校省级自然科学研究基金KJ2007B132;三束材料改性国家重点实验室大连理工大学开放基金mmlab0702
2008-04-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共8页
198-205