10.3321/j.issn:0454-5648.2007.07.005
添加Y2O3-Al2O3烧结助剂的氮化硅陶瓷的超高压烧结
以Y2O3-Al2O3体系为烧结助剂,在5.4~5.7 GPa,1 570~1 770K的高温高压条件下进行了氮化硅陶瓷的超高压烧结研究.用X射线衍射及扫描电镜对烧结样品进行了分析和观察,探讨了烧结温度及压力对烧结的陶瓷样品性能的影响.结果表明:得到的氮化硅由相互交错的长柱状β-Si3N4晶粒组成,微观结构均匀,α-Si3N4完全转变为β-Si3N4.经5.7GPa,1 770K且保温15min的超高压烧结,样品的相对密度达99.0%,Rockwell硬度HRA为99,Vickers硬度HV达23.3GPa.
氮化硅陶瓷、超高压烧结、力学性能、显微结构
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O771(晶体缺陷)
国家自然科学基金50472102;中国工程物理研究院基金20010864;西南科技大学校科研和教改项目ZK043030;西南科技大学重点学科建设基金220-12100013
2007-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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