镀SiO2膜玻璃基片上化学气相沉积法制备SnO2:Sb薄膜

摘要：

采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-doped tin oxide,ATO)薄膜.研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响.用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪、双光束红外分光光度计对薄膜的结构、形貌和成分进行了表征.结果表明:沉积温度为490 ℃以上时,薄膜主要以四方相金红石结构存在.随着基板输送速度的提高,薄膜择优取向由(110)转变为(200).薄膜中掺杂的Sb以Sb5+的形式存在;当基板温度为530 ℃时,薄膜表面的C没有完全燃尽,以C-O形式存在于薄膜中.薄膜的可见光透过率随基板温度的升高而增大.具有(110)择优取向的薄膜的红外反射性能较好.

关键词：锑掺杂氧化锡薄膜、化学气相沉积、基板温度、基板输送速度、择优取向

所属期刊栏目：35

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA335030

在线出版日期：2007-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：600-605