溶液配比及电参数对钛阴极微弧电沉积氧化铝涂层的影响

摘要：

用阴极微弧电沉积在钛表面生成Al2O3涂层,探讨溶液组成、放电电压及时间对涂层形貌、相组成及生长速率的影响.结果表明:涂层由α-Al2O3和γ-Al2O3组成.随溶液中Al(NO3)3含量的增加,α-Al2O3含量和涂层生长速率均先增后减.电导率决定了Al(NO3)3的摩尔浓度为0.2 mol/l时是较佳值.乙醇与水的体积比对溶液的起弧影响很大,过高的含水量因溶剂效应大而不利于阴极微弧电沉积.随电压升高,涂层的生长速率增加,α-Al2O3的含量增加.400 V时,α-Al2O3含量可达76%.延长放电时间,涂层的生长速率亦先快后慢.120 min时,涂层厚度可达100μm.

关键词：钛、氧化铝涂层、阴极微弧电沉积、溶液配比、电参数

所属期刊栏目：33

分类号：TQ174.1

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA326070

在线出版日期：2005-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：799-805