10.3321/j.issn:0454-5648.2005.01.001
逆反应烧结制备碳化硅/氮化硅复合材料的工艺
制备Si3N4/SiC复合材料的常规反应烧结是以Si和SiC为原料进行氮化烧结,而逆反应烧结是以Si3N4和SiC为原料,首先使Si3N4反向反应为活性氧化物后再进行烧结.建立逆反应烧结工艺制备Si3N4/SiC复合材料的热力学基础.确定了Si3N4先于SiC氧化;氧化产物可以是SiO2,也可以是Si2N2O;形成的SiO2氧化膜不会与基体材料反应;在膜与基体之间可能生成Si2N2O.论证了逆反应烧结的热力学可行性.通过6个烧结实验,证实了其热力学分析的正确性,并从工艺参数与密度变化、残氮率和比强度等关系筛选出最佳的烧结工艺参数.
氮化硅/碳化硅复合材料、逆反应烧结、热力学、工艺基础
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TB321/TQ175(工程材料学)
国家自然科学基金50332010;国家自然科学基金50172007
2005-03-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
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