10.3321/j.issn:0454-5648.2004.11.021
双光束激励制备纳米氮化硅粉体
介绍了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工艺原理.通过增加正交紫外光束激励NH3分解,提高气相中n(N)/n(Si)比,从而减少产物中游离硅的浓度,制备出粒径7~15 nm的无团聚、理想化学剂量[n(N)/n(Si)=1.314]的非晶纳米氮化硅粉体.用透射电子显微镜观察了粉体形貌,并指出表面效应和量子尺寸效应导致粉体红外吸收光谱的蓝移和宽化以及Raman光谱的蓝移现象.
氮化硅、激光诱导化学气相沉积法、双光束激励、游离硅
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TB383(工程材料学)
2004-12-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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