反应溅射制备TiO2:MoO3复合薄膜的光催化降解性能

摘要：

利用中频交流磁控溅射技术反应溅射Ti-Mo合金靶(Mo的摩尔分数为10%)制备了TiO2:MoO3复合薄膜,用XPS,XRD和SEM分析了复合薄膜的成分、结构和表面形貌,并研究了其光催化降解性能.结果发现:反应溅射制备的复合薄膜中Ti,Mo均完全氧化,Mo的摩尔分数约为4%.TiO2 : MoO3复合薄膜由于存在MoO3相,其对亚甲基蓝和甲基橙的光催化效果相对较弱,同时其对亚甲基蓝有极强的吸附作用.薄膜越厚,其中的MoO3相含量越多,薄膜的吸附性能越强,光催化能力越弱.

关键词：氧化钛、三氧化钼复合薄膜、中频交流磁控溅射、光催化降解、亚甲基蓝、吸附

所属期刊栏目：32

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：面向21世纪教育振兴行动计划985计划

在线出版日期：2004-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：694-699