10.3321/j.issn:0454-5648.2004.05.020
高岭石/苯甲酰胺插层复合物的制备与表征
以高岭石/二甲亚砜作为前驱物,用熔融插层法成功制备了高岭石/苯甲酰胺插层复合物,产物用X射线粉晶衍射和Fourier变换红外光谱进行了表征.实验结果表明:高岭石/苯甲酰胺插层复合物中,高岭石的层间距扩张到1.428nm,插层率达到了82.5%;苯甲酰胺分子的氨基与高岭石的内表面羟基形成了氢键,苯甲酰胺分子可能以单分子层垂直排列于高岭石层间.高岭石/苯甲酰胺插层复合物在140~180℃的温度范围内,会发生苯甲酰胺的脱嵌过程.
高岭石、苯甲酰胺、插层、插层复合物
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TQ324.4
2004-07-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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